研磨机wafer预载位的高精度检测方案

研磨机wafer预载位的有无检测确认。

■ 不同工序时wafer衬底的粗糙度较大，尤其是抛光后的wafer作为镜面体产生的正反光非常容易影响传感器的检测。

■ 需要300~500mm的远距离稳定检测，方便机械手吸取wafer。

■ 需要对透明wafer衬底进行检测。

核心产品：光电传感器 E3AS-HL500L

■ 透镜自动校准配备高精度CMOS，稳定检测各种材质wafer。

■ 拥有优异的角度特性，在远距离检测时能针对线切割后的wafer的粗糙面进行稳定检测。

■ 需要检测透明wafer时，可通过示教轻松设定高灵敏度背景。