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成功事例 | 涂胶显影热盘多区高速同步均温控制方案

发布时间:2025-05-28 10:26   类型:应用案例   人浏览

应用介绍



【行业】SEMI

【设备】涂胶显影

【用途】通过机械手在各系统间传输和处理,从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、烘烤、显影、坚膜等工艺

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应用场景


对晶圆加工的热盘进行多温区同步控温。

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解决课题


 客户设备处在洁净室内,柜内空间有限,需要节省空间。

 为了保证半导体晶圆的品质(热盘温度不均可能导致晶圆变形等不良),需要热盘整体高速同步升温,热盘各个区域温度保持一致。

价值提案


核心产品:温度控制单元 NX-TC

■ 每台单元支持8Ch控制,仅30mm宽度,大大节省面积。同时搭配小型连接器端子台XW2K,进一步节省空间。

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 通过温度均一FB实现高速设定且可保存多种配方,实现针对多种对象的均匀加热的自动补偿算法及温度均一控制技术。各分区控温精度达到了±0.1℃,温度均一性达到了R=0.27。

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NX系列
高性能温控单元 NX-HTC

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